大家在使用鍍鎳砂時(shí)一個(gè)主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩定，由此導致上砂質(zhì)量的波動(dòng)。不穩定的一個(gè)主要原因是砂的退鍍，那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢？可能這篇文章能給你一些。

鍍鈦砂和鍍鎢砂，都屬于高耐腐蝕砂，鍍層穩定。比如，日本使用鍍鈦砂，耐久性2-3個(gè)月，有利于產(chǎn)品質(zhì)量穩定和產(chǎn)線(xiàn)的自動(dòng)化。

鍍W砂，W與金剛石界面形成W2C化學(xué)鍵合，而且W-Ni相容性?xún)?yōu)異，有利于砂與基線(xiàn)鍍層的結合，所以鍍W砂也是很有潛力的線(xiàn)鋸原材料。


PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡(jiǎn)單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過(guò)程也與電焊類(lèi)似，具體地說(shuō)，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開(kāi)，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優(yōu)點(diǎn)。