在靶材和襯底之間加上一個(gè)直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。要保持自持放電，在兩極板間距為數厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達10帕，這對濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽(yáng)極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。


首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。此時(shí)，部分N2發(fā)生離化，形成氮的陽(yáng)離子以及電子。

蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區并被電離。