金屬表面處理PVD鍍鈦種類(lèi)：氮化鈦(TiN),鍍鉻(CrN), ROSE,氮鋁鈦(TiAlN),高鋁鈦(AlTiN), PLUS,氮碳化鈦(TiCN),氮碳化鉻(CrCN)等各種超硬膜層，其涂層厚度可達到0.5～5um，故而您不用擔心會(huì )給尺寸帶來(lái)麻煩，并以工藝使產(chǎn)品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產(chǎn)成本。


首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。首先，帶有正電位的引弧針（陽(yáng)極）靠近帶有負電位的靶材（陰極），陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí)，兩極間的氣體會(huì )被擊穿，形成弧電流，這與電焊的引弧相類(lèi)似。此時(shí)，部分N2發(fā)生離化，形成氮的陽(yáng)離子以及電子。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。