商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。
在二十世紀七十年代末,人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù),即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上,它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能,使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能,還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí),就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響,受到了高度重視。同時(shí),這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求,是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。
此外,多弧鍍涂層顏色較為穩定,尤其是在做 TiN 涂層時(shí),每一批次均容易得到相同穩定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是,在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下,當涂層厚度達到0.3μm 時(shí),沉積率與反射率接近,成膜變得非常困難。而且,薄膜表面開(kāi)始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是,由于金屬是熔后蒸發(fā),因此沉積顆粒較大,致密度低,耐磨性比磁控濺射法成膜差。
濺射技術(shù):
濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:
a. 利用直流輝光放電的二極濺射;
b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;
c. 利用射頻放電的射頻濺射;
d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.
2 磁控濺射陰極結構:
目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長(cháng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產(chǎn)當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
高經(jīng)理先生
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