自從進(jìn)入21世紀，伴隨著(zhù)現代工業(yè)技術(shù)的發(fā)展，在大多數零件上，不論是外觀(guān)，還是性能，越來(lái)越精細的零件都有了更高的要求。面對這些嚴格要求，傳統的零件加工辦法和表面處理技術(shù)已經(jīng)達不到標準。經(jīng)過(guò)長(cháng)時(shí)間的研發(fā)，鍍鈦解決了此類(lèi)問(wèn)題。鍍鈦不僅能夠滿(mǎn)足人們對于零件的耐磨性、抗腐蝕性、少耗損等等性能的要求，更解決了零件材料經(jīng)不住處于高溫的環(huán)境中的問(wèn)題，成功保持了零件基本不會(huì )變形，硬度不會(huì )降低的狀態(tài)。

感應加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。

優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩定，不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達襯底凝結成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點(diǎn)）材料，具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?；a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

受到電場(chǎng)力的吸引，接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近，而電子則會(huì )飛向引弧針，但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子，因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下，電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離，于是當電子到達陽(yáng)極時(shí)，離子將不會(huì )到達陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小，可達微米級。根據E=U/d，可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高，這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。