鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。

　　在二十世紀七十年代末，人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí)，就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，受到了高度重視。同時(shí)，這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求，是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。

整卷鍍色的優(yōu)勢：

1色差小整卷材質(zhì)、表面狀態(tài)均一致，整卷顏色一致。2交貨時(shí)間短大幅提高資金周轉率，降低資金占壓。不銹鋼彩色卷板發(fā)貨，在當地接單平板，實(shí)現不銹鋼彩色板材不定尺上午下單下午交貨。為客戶(hù)創(chuàng )造價(jià)值。3價(jià)格低自動(dòng)化生產(chǎn)大幅降低人工支出，生產(chǎn)效率大幅提升，具有平板鍍鈦的價(jià)格優(yōu)勢。4，低成本實(shí)現自動(dòng)化生產(chǎn)，大幅提高工作效率，降低人力成本。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.