商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層:
裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕;硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數,提高工件的使用壽命。
首先,帶有正電位的引弧針(陽(yáng)極)靠近帶有負電位的靶材(陰極),陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí),兩極間的氣體會(huì )被擊穿,形成弧電流,這與電焊的引弧相類(lèi)似。首先,帶有正電位的引弧針(陽(yáng)極)靠近帶有負電位的靶材(陰極),陰陽(yáng)兩極距離足夠小時(shí),兩極間的氣體會(huì )被擊穿,形成弧電流,這與電焊的引弧相類(lèi)似。此時(shí),部分N2發(fā)生離化,形成氮的陽(yáng)離子以及電子。
鍍料原子、分子或離子在基體上沉積:工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能,高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。
高經(jīng)理先生
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