PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水

過(guò)清洗線(xiàn)后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等

缺點(diǎn)

    會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時(shí)，靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應（即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。