不銹鋼鍍鈦電話(huà)-滕州不銹鋼鍍鈦電話(huà)-金常來(lái)品質(zhì)售后無(wú)憂(yōu)
商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工
地址：河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng)：金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn)：1593-9088815
QQ：1304173334
產(chǎn)品詳情 聯(lián)系方式
產(chǎn)品品牌：金常來(lái)
供貨總量：不限
價(jià)格說(shuō)明：議定
包裝說(shuō)明：不限
物流說(shuō)明：貨運及物流
交貨說(shuō)明：按訂單
有效期至：長(cháng)期有效
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。
離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。
九、離子鍍的工藝過(guò)程：蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。
基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。
c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.
d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.
高經(jīng)理先生
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