商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
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較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡(jiǎn)單,容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作,其引弧的過(guò)程也與電焊類(lèi)似,具體地說(shuō),在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,斷開(kāi),使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑,在蒸發(fā)源表面上連續形成熔池,使金屬蒸發(fā)后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結合力強的優(yōu)點(diǎn)。
濺射技術(shù):
濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:
a. 利用直流輝光放電的二極濺射;
b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;
c. 利用射頻放電的射頻濺射;
d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.
2 磁控濺射陰極結構:
目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長(cháng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產(chǎn)當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
高經(jīng)理先生
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