PVD鍍鈦通常稱(chēng)謂：鍍鈦，鍍鈦廠(chǎng)，鍍膜,真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面處理，PVD涂層，模具鍍鈦，納米涂層，真空電鍍，零件鍍鈦，精密模具鍍鈦，沖壓模具鍍鈦，壓鑄模具鍍鉻，耐磨涂層，真空鍍鈦，鍍鈦涂層，離子鍍鈦，真空涂層，沖棒鍍鈦，五金模具鍍鈦，塑膠模鍍鈦，納米鍍鈦,金屬表面處理等.  

鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能，高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

其缺點(diǎn)是：

1）工藝比傳統單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，大約為65～70%（傳統單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85～90%；

3）價(jià)格會(huì )比傳統單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結構的影響較大，而傳統單色PVD則幾乎不受限制

現代涂層設備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽(yáng)極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現代涂層設備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統、機械傳動(dòng)部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統等部分組成。