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商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工
地址：河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng)：金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn)：1593-9088815
QQ：1304173334
產(chǎn)品詳情 聯(lián)系方式
產(chǎn)品品牌：金常來(lái)
供貨總量：不限
價(jià)格說(shuō)明：議定
包裝說(shuō)明：不限
物流說(shuō)明：貨運及物流
交貨說(shuō)明：按訂單
有效期至：長(cháng)期有效
PVD是英文Physical VaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長(cháng)壽命。已經(jīng)廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。
離子鍍
在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量，是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。
根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。
高經(jīng)理先生
手機：15939088815
地址：河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
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