商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時(shí),靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應(即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)
磁控濺射
磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。
受到電場(chǎng)力的吸引,接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近,而電子則會(huì )飛向引弧針,但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子,因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下,電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離,于是當電子到達陽(yáng)極時(shí),離子將不會(huì )到達陰極靶面,而是在距離靶面較近的位置處富集,形成正離子堆積層,陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小,可達微米級。根據E=U/d,可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高,這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。
PVD加工特點(diǎn)
1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上,對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間,一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí);
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;
高經(jīng)理先生
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