PVD是英文Physical VaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長(cháng)壽命。已經(jīng)廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。

PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水

過(guò)清洗線(xiàn)后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。

蒸發(fā)鍍膜

真空條件下，將鍍料加熱蒸發(fā)或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。

采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。