在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點(diǎn)電子槍結構復雜，造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解，化學(xué)比失調

3激光蒸發(fā)鍍膜

采用高能激光束對材料進(jìn)行蒸發(fā)，用以形成薄膜的方法，一般稱(chēng)為激光蒸鍍。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復雜的合金或化合物，膜層的化學(xué)計量比與靶材保持一致

缺點(diǎn)

    易產(chǎn)生微小顆粒飛濺，影響薄膜質(zhì)量

PVD加工特點(diǎn)

1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；

3).涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí)；

4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；