商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2,可達到3000℃以上,可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場(chǎng)線(xiàn)圈使電子束聚焦和偏轉,對膜料進(jìn)行轟擊和加熱。
受到電場(chǎng)力的吸引,接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近,而電子則會(huì )飛向引弧針,但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子,因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下,電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離,于是當電子到達陽(yáng)極時(shí),離子將不會(huì )到達陰極靶面,而是在距離靶面較近的位置處富集,形成正離子堆積層,陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小,可達微米級。根據E=U/d,可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高,這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,使氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar ),離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì )被濺射出來(lái)而沉積到工件表面?!R射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動(dòng)方向隨機,沉積的膜易于均勻。
高經(jīng)理先生
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