鍍鈦板種類(lèi)多，有鍍鈦毛絲面板、鍍鈦鏡面板及鍍鈦亂紋板和鍍鈦霧珠板等，在經(jīng)過(guò)設計師的巧思之下，不同面材可以呈現出不同的空間表現，在使用上，也可以帶出線(xiàn)條的俐落、幾何的造型等趣味感。目前，鍍鈦材質(zhì)常被運用在室內公共空間，如餐廳、客廳或玄關(guān)。但如果預算上許可，大也可以用在更衣間或臥房，或設計于桌面。使用鍍鈦鏡面板，其反光效果好，可以讓視覺(jué)空間變得前衛。

電弧蒸發(fā)鍍膜

在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。

優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等

缺點(diǎn)

    會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。

離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量，是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。

根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。