在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀(guān)裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時(shí)，靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應（即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。

產(chǎn)生原因：產(chǎn)品周轉運輸或在爐內生產(chǎn)時(shí)素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點(diǎn)、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。

解決方案：縮短產(chǎn)品在爐外停滯時(shí)間及爐內潔凈度管控，減少異物掉落在產(chǎn)品表面。

產(chǎn)生原因：主要原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無(wú)法在產(chǎn)品上沉積或結合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材。

解決方案：將產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。