離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量，是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。

根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

產(chǎn)生原因：產(chǎn)品周轉運輸或在爐內生產(chǎn)時(shí)素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點(diǎn)、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。

解決方案：縮短產(chǎn)品在爐外停滯時(shí)間及爐內潔凈度管控，減少異物掉落在產(chǎn)品表面。

產(chǎn)生原因：主要原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無(wú)法在產(chǎn)品上沉積或結合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材。

解決方案：將產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。