商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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PVD是英文Physical VaporDeition(物理氣相沉積)的縮寫(xiě),是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色,并改善耐磨、耐腐蝕性,延長(cháng)壽命。已經(jīng)廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。
感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩定,不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,到達襯底凝結成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,使氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar ),離子在電場(chǎng)力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì )被濺射出來(lái)而沉積到工件表面?!R射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動(dòng)方向隨機,沉積的膜易于均勻。
高經(jīng)理先生
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