商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
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PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。
蒸發(fā)鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發(fā)或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。
采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù),一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程。
PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟
(1)清洗工件:接通直流電源,氣進(jìn)行輝光放電為離子,離子轟擊工件表面,工件表層粒子和臟物被轟濺拋出;
(2)鍍料的氣化:即通入交流電后,使鍍料蒸發(fā)氣化。
離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉換成熱能,從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。然而,整個(gè)工件,特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣,受到的局限性則較小。通常,各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬,也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。
高經(jīng)理先生
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