商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
點(diǎn)可蒸發(fā)任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面,熱
缺點(diǎn)電子槍結構復雜,造價(jià)高化合物沉積時(shí)易分解,化學(xué)比失調
3激光蒸發(fā)鍍膜
采用高能激光束對材料進(jìn)行蒸發(fā),用以形成薄膜的方法,一般稱(chēng)為激光蒸鍍。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高蒸發(fā)速率高特別適合蒸發(fā)成分復雜的合金或化合物,膜層的化學(xué)計量比與靶材保持一致
缺點(diǎn)
易產(chǎn)生微小顆粒飛濺,影響薄膜質(zhì)量
受到電場(chǎng)力的吸引,接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近,而電子則會(huì )飛向引弧針,但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子,因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下,電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離,于是當電子到達陽(yáng)極時(shí),離子將不會(huì )到達陰極靶面,而是在距離靶面較近的位置處富集,形成正離子堆積層,陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小,可達微米級。根據E=U/d,可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高,這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。
離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
九、離子鍍的工藝過(guò)程:蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。
高經(jīng)理先生
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