商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2,可達到3000℃以上,可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場(chǎng)線(xiàn)圈使電子束聚焦和偏轉,對膜料進(jìn)行轟擊和加熱。
現有鍍膜工藝,多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗,既復雜又費事。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強了附著(zhù)力,簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉換成熱能,從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。
濺射技術(shù):
濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:
a. 利用直流輝光放電的二極濺射;
b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;
c. 利用射頻放電的射頻濺射;
d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.
2 磁控濺射陰極結構:
目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長(cháng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產(chǎn)當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
高經(jīng)理先生
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