PVD是英文Physical VaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫(xiě)，是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長(cháng)壽命。已經(jīng)廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。

感應加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。

優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩定，不易產(chǎn)生飛濺現象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設備復雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達襯底凝結成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點(diǎn)）材料，具有附著(zhù)力強、成分可控、易于規?；a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

九、離子鍍的工藝過(guò)程：蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。