、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規格、內部構成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿(mǎn)足市面常規（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì )對鍍鈦結果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.