眾所周知，鍍鈦是在高溫，真空鈦金爐內，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。這么做不僅僅是為了增加產(chǎn)品的美觀(guān)程度，也可以很大程度上提升其使用壽命，所以在實(shí)際中得到了廣泛應用，成為當今公認的、能加工硬脆非金屬材料的工具。


濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar )，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì )被濺射出來(lái)而沉積到工件表面?！R射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動(dòng)方向隨機，沉積的膜易于均勻。

現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著(zhù)力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。